光學窗口片拋光時間過長會出現的現象
更新時間：2019-12-16
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光學窗口片研磨拋光階段的工藝流程為：粗磨（一致化）-精磨（平坦化）-拋光（鏡面化）。其中，粗磨和精磨階段都是采取磨料沖擊破碎藍寶石表面的方式進行，為純物理作用，拋光一般采用堿性二氧化硅溶膠，一邊對藍寶石表面進行輕微腐蝕，一邊通過拋光墊掃除的方式達到鏡面效果，為CMP拋光，即化學物理拋光法。
由以上流程可知，藍寶石拋光是一個腐蝕—掃除的過程，其中，腐蝕的厚度僅僅達到埃米級。藍寶石拋光完結應該是鏡片的所有部分都達到鏡面效果。
在日常加工中，經常碰到光學窗口片拋光過長的現象，時間太長的會出現以下現象：
1.長方形特別是長條形的四個角拋不透；
2.表面有坑點；
3.橘皮水紋等缺陷；
4.表面發蒙，霧化。
以上現象，除第三點外，基本都由研磨所產生。
光學窗口片的拋光是逐漸腐蝕的過程，而腐蝕的深度非常細微，藍寶石拋光時間長，無非就是腐蝕還沒達致全局，要想達致全局，只能延長拋光時間。
若光學窗口片表面出現坑點，該如何處理？
表面坑點有兩種基本現象，一是個別坑點且全盤幾乎每片都有；二是單片上密布坑點。頭一種現象產生的原因是研磨砂個別大顆粒擠壓產生的坑點，采取的方式是卸壓，即將上盤的壓力降低，甚至可以利用反壓，同時注意分析是否有碎屑、鐵屑或其他大號砂通過環境傳輸混入，若有此現象，必須清洗機器并過濾砂液，一般來講，混入少量的大顆粒研磨砂，通過研磨一定的時間后會消除。
